硅基芯片尽头的分叉路:碳纳米管与光子芯片的下一代争夺战

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见闻网 2026-01-30 14:29 阅读数 5 #科技前沿

当2nm工艺被公认为硅基芯片的物理极限,延续了半个多世纪的摩尔定律走到了关键岔路口。在硅基材料的性能天花板日益清晰的当下,下一代半导体材料的争夺已白热化:一边是被视为“硅基天然继任者”的碳纳米管,凭借优异的电学性能试图延续摩尔定律的荣光;另一边是突破电子传输极限的光子芯片,以光速运算的潜力重构计算范式。两者各有技术壁垒与应用场景,共同指向后硅基时代的算力未来。

碳纳米管:延续摩尔定律的“碳基接力者”

硅基芯片尽头的分叉路:碳纳米管与光子芯片的下一代争夺战

碳纳米管并非新鲜概念,早在2007年就被提出可能成为下一代电子技术核心,而随着硅基制程逼近极限,它的商业化价值愈发凸显。作为单壁碳纳米管的核心特性,其电子输运呈现完美的弹道结构,能量利用率高,超薄导电通道让载流子迁移率远高于硅,在小于10nm技术节点下能最小化短通道效应,这意味着碳纳米管芯片能在更先进的制程节点保持性能优势,甚至用更大制程实现硅基更小制程的性能——据研究,碳基芯片在同等工艺下性能比硅基提升10倍,这对于当前在高端光刻机上受限的行业而言,无疑是绕进制程瓶颈的关键路径。

科研突破正加速碳纳米管的落地进程:2025年,复旦大学团队成功研制全球首款基于碳基低维材料的32位RISC-V架构微处理器“无极”,首次实现5900个晶体管的集成,突破了碳基电子学工程化瓶颈;早在2019年,麻省理工就用碳纳米管做出了能执行“Hello World”的CPU,验证了碳纳米管作为计算核心的可行性。此外,碳与硅同为主族元素,化学性质相似,现有半导体制造工艺可部分复用,降低了产业化的转换成本。

不过,碳纳米管的规模化应用仍面临核心挑战:如何高效分离半导体型碳纳米管(金属型碳纳米管会导致芯片短路),以及实现晶圆级的高密度、均匀排列。2020年北大团队在《科学》上发表的“高密度半导体阵列碳纳米管”研究,正是解决这一难题的关键一步,被业界视为碳基半导体进入规模工业化的基础。

光子芯片:突破电学极限的“光计算革命”

与碳纳米管延续电子计算路径不同,光子芯片试图从底层逻辑上突破硅基的瓶颈:用光子代替电子作为信息载体,利用光速传输的特性实现无延迟、低功耗的计算与通信。硅基芯片的发热与延迟本质上源于电子传输的电阻和散射,而光子在传输过程中几乎没有能量损耗,理论上能实现比电子芯片高几个数量级的带宽,完美适配AI大模型训练、大数据中心等高算力场景的需求。

当前光子芯片的研发聚焦于“硅光集成”路线,即在硅衬底上集成光发射器、调制器、探测器等光学组件,兼容现有硅基制造工艺。IBM在2024年推出的光子芯片原型,实现了在1mm²芯片上集成上千个光学组件,数据传输速率达到100Tbps;国内中科院上海微系统所也在硅光芯片领域取得突破,研制出的400G硅光收发芯片已应用于数据中心。此外,光子芯片在量子计算领域也展现出潜力,基于光子的量子比特更易实现长距离传输与操控,是量子计算的重要技术路线之一。

但光子芯片的商业化仍面临多重障碍:一是核心组件的集成难度,比如在硅片上制造高效的激光器一直是技术难题,目前多采用异质集成方案,成本较高;二是光计算的算法适配,当前的计算架构都是为电子设计的,要充分发挥光子芯片的优势,需要重构软件与算法生态;三是成本问题,高端光子芯片的制造成本仍远高于硅基芯片,难以大规模普及。

竞争之外的协同:后硅基时代的异构未来

碳纳米管与光子芯片并非非此即彼的竞争对手,而是在不同场景下互补的技术路线。碳纳米管芯片更适合作为通用计算的核心,延续摩尔定律的性能提升曲线,在智能手机、PC等消费电子领域实现替代;而光子芯片则在高带宽、低延迟的特定场景发挥优势,比如数据中心的内部互连、AI加速卡的通信链路。

业界已经开始探索两者的异构集成:比如用碳纳米管芯片负责逻辑运算,光子芯片负责芯片间或服务器间的数据传输,兼顾计算性能与通信效率。这种“碳基电子+光子互联”的架构,既保留了电子计算的成熟生态,又发挥了光子传输的优势,可能是后硅基时代的主流形态。

无论是碳纳米管还是光子芯片,都代表了人类突破硅基极限的探索方向。碳纳米管试图用更优异的电子材料延续摩尔定律的轨迹,光子芯片则从传输介质层面重构计算范式。当前两者都处于技术突破的关键期,碳纳米管在通用计算领域的落地速度更快,光子芯片在高算力场景的潜力更突出。未来,两者或许不会分出绝对的胜负,而是以异构集成的方式,共同构建后硅基时代的算力新生态,推动人类社会进入下一个算力爆发的阶段。

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